Giriş | English

Yüksek Lisans > Fen Bilimleri Enstitüsü > Tarim Bilimleri ve Teknolojileri(yl.ing) > İNCE FİLM BÜYÜTME TEKNİKLERİ VE UYGULAMALARI
 
Dersin adı Dersin seviyesi Dersin kodu Dersin tipi Dersin dönemi Yerel kredi AKTS kredisi Ders bilgileri
İNCE FİLM BÜYÜTME TEKNİKLERİ VE UYGULAMALARI İkinci düzey FİZ611 1 7.50 7.50 Yazdır
   
Dersin tanımı
Ön koşul dersleri Yok
Eğitimin dili Türkçe
Koordinatör PROF. DR. ENİSE AYYILDIZ
Dersi veren öğretim eleman(lar)ı PROF. DR. ENİSE AYYILDIZ
Yardımcı öğretim eleman(lar)ı Yok
Dersin veriliş şekli Yüz yüze
Dersin amacı Yarıiletken devre elemanı üretiminde kullanılan ince filmlerin büyütme tekniklerini (saçtırma, buhar biriktirme vs.) ve film şekillendirme aşamaları (litografi, etching vs.) hakkında bilgi vermektir.
Dersin tanımı Vakum bilimi, gazların dinamiği ve akışı, vakum pompaları, vakum odaları, vakum ölçerler, kalınlık ölçme teknikleri, ince filmlerin hazırlanmasında kullanılan alttaşlar, ince film büyütme teknikleri, mikroelektronik üretim yöntemleri (film şekillendirme yöntemleri, litografi).

Dersin içeriği
1- Vakumun tanımı, sınıflandırılması ve uygulamaları
2- Rotary ve difüzyon vakum pompaları
3- Turbo moleküler pompalar, vakum ölçüm yöntemleri
4- İnce film alttaşları
5- İnce filmlerin kalınlık ölçüm teknikleri
6- İnce film büyütme teknikleri, Dönel kaplama, Elektron demet buharlaştırma
7- Moleküler demet epitaksi, fiziksel buhar biriktirme
8- Kimyasal buhar biriktirme (CVD)
9- Metal organik imyasal buhar biriktirme (MOCVD)
10- Saçtırmanın Fiziği
11- Saçtırma Sistemleri
12- Litografi, maske hazırlama, mask aligner, foto maskeler
13- Dağlama ve metalizasyon
14- Aygıtların paketlenmesi, kesme ve tel bağlama
15-
16-
17-
18-
19-
20-

Dersin öğrenme çıktıları
1- Vakumun önemini bilir.
2- Epitaksiyel tabakalardaki kusurları bilir.
3- Çeşitli buharlaştırma teknikleri hakkında bilgi sahibi olur.
4- Saçtırma yöntemi ile büyütülen filmlerin kalitesi üzerine saçtırma parametrelerinin etkilerini tartışır.
5- Biriktirme sonrası film yapısı ve ilgili özellikleri karakterize eder.
6- Yarıiletken devre elemanlarının üretiminde ince film teknolojilerini kullanır.
7-
8-
9-
10-

*Dersin program yeterliliklerine katkı seviyesi
1-
2-
3-
4-
5-
6-
7-
8-
9-
10-
11-
12-
13-
14-
15-
16-
17-
18-
19-
20-
21-
22-
23-
24-
25-
26-
27-
28-
29-
30-
31-
32-
33-
34-
35-
36-
37-
38-
39-
40-
41-
42-
43-
44-
45-
Yıldızların sayısı 1’den (en az) 5’e (en fazla) kadar katkı seviyesini ifade eder

Planlanan öğretim faaliyetleri, öğretme metodları ve AKTS iş yükü
  Sayısı Süresi (saat) Sayı*Süre (saat)
Yüz yüze eğitim 14 3 42
Sınıf dışı ders çalışma süresi (ön çalışma, pekiştirme) 14 2 28
Ödevler 7 5 35
Sunum / Seminer hazırlama 1 5 5
Kısa sınavlar 0 0 0
Ara sınavlara hazırlık 1 20 20
Ara sınavlar 1 2 2
Proje (Yarıyıl ödevi) 1 20 20
Laboratuvar 0 0 0
Arazi çalışması 0 0 0
Yarıyıl sonu sınavına hazırlık 1 30 30
Yarıyıl sonu sınavı 1 2 2
Araştırma 0 0 0
Toplam iş yükü     184
AKTS     7.50

Değerlendirme yöntemleri ve kriterler
Yarıyıl içi değerlendirme Sayısı Katkı Yüzdesi
Ara sınav 1 65
Kısa sınav 0 0
Ödev 7 35
Yarıyıl içi toplam   100
Yarıyıl içi değerlendirmelerin başarıya katkı oranı   40
Yarıyıl sonu sınavının başarıya katkı oranı   60
Genel toplam   100

Önerilen veya zorunlu okuma materyalleri
Ders kitabı 1. N.Yoshimura,Vacuum Technology:Practice for Scientific Instruments, Springer, 2008. 2. M. Razeghi, Fundamentals of Solid State Engineering, Kluver Acd. Publ., 2002.
Yardımcı Kaynaklar S. Wolf ve R.N.Tauber, Silicon Processing for the VLSI Era, Vol 1., Lattice Press, 1986.

Ders ile ilgili dosyalar