Ön koşul dersleri
|
Yok
|
Eğitimin dili
|
Türkçe
|
Koordinatör
|
PROF. DR. ENİSE AYYILDIZ
|
Dersi veren öğretim eleman(lar)ı
|
PROF. DR. ENİSE AYYILDIZ
|
Yardımcı öğretim eleman(lar)ı
|
Yok
|
Dersin veriliş şekli
|
Yüz yüze
|
Dersin amacı
|
Yarıiletken devre elemanı üretiminde kullanılan ince filmlerin büyütme tekniklerini (saçtırma, buhar biriktirme vs.) ve film şekillendirme aşamaları (litografi, etching vs.) hakkında bilgi vermektir.
|
Dersin tanımı
|
Vakum bilimi, gazların dinamiği ve akışı, vakum pompaları, vakum odaları, vakum ölçerler, kalınlık ölçme teknikleri, ince filmlerin hazırlanmasında kullanılan alttaşlar, ince film büyütme teknikleri, mikroelektronik üretim yöntemleri (film şekillendirme yöntemleri, litografi).
|
1- |
Vakumun tanımı, sınıflandırılması ve uygulamaları
|
2- |
Rotary ve difüzyon vakum pompaları
|
3- |
Turbo moleküler pompalar, vakum ölçüm yöntemleri
|
4- |
İnce film alttaşları
|
5- |
İnce filmlerin kalınlık ölçüm teknikleri
|
6- |
İnce film büyütme teknikleri, Dönel kaplama, Elektron demet buharlaştırma
|
7- |
Moleküler demet epitaksi, fiziksel buhar biriktirme
|
8- |
Kimyasal buhar biriktirme (CVD)
|
9- |
Metal organik imyasal buhar biriktirme (MOCVD)
|
10- |
Saçtırmanın Fiziği
|
11- |
Saçtırma Sistemleri
|
12- |
Litografi, maske hazırlama, mask aligner, foto maskeler
|
13- |
Dağlama ve metalizasyon
|
14- |
Aygıtların paketlenmesi, kesme ve tel bağlama
|
15- |
|
16- |
|
17- |
|
18- |
|
19- |
|
20- |
|
1- |
Vakumun önemini bilir.
|
2- |
Epitaksiyel tabakalardaki kusurları bilir.
|
3- |
Çeşitli buharlaştırma teknikleri hakkında bilgi sahibi olur.
|
4- |
Saçtırma yöntemi ile büyütülen filmlerin kalitesi üzerine saçtırma parametrelerinin etkilerini tartışır.
|
5- |
Biriktirme sonrası film yapısı ve ilgili özellikleri karakterize eder.
|
6- |
Yarıiletken devre elemanlarının üretiminde ince film teknolojilerini kullanır.
|
7- |
|
8- |
|
9- |
|
10- |
|
*Dersin program yeterliliklerine katkı seviyesi
|
1- |
|
|
2- |
|
|
3- |
|
|
4- |
|
|
5- |
|
|
6- |
|
|
7- |
|
|
8- |
|
|
9- |
|
|
10- |
|
|
11- |
|
|
12- |
|
|
13- |
|
|
14- |
|
|
15- |
|
|
16- |
|
|
17- |
|
|
18- |
|
|
19- |
|
|
20- |
|
|
21- |
|
|
22- |
|
|
23- |
|
|
24- |
|
|
25- |
|
|
26- |
|
|
27- |
|
|
28- |
|
|
29- |
|
|
30- |
|
|
31- |
|
|
32- |
|
|
33- |
|
|
34- |
|
|
35- |
|
|
36- |
|
|
37- |
|
|
38- |
|
|
39- |
|
|
40- |
|
|
41- |
|
|
42- |
|
|
43- |
|
|
44- |
|
|
45- |
|
|
Yıldızların sayısı 1’den (en az) 5’e (en fazla) kadar katkı seviyesini ifade eder |
Planlanan öğretim faaliyetleri, öğretme metodları ve AKTS iş yükü
|
|
Sayısı
|
Süresi (saat)
|
Sayı*Süre (saat)
|
Yüz yüze eğitim
|
14
|
3
|
42
|
Sınıf dışı ders çalışma süresi (ön çalışma, pekiştirme)
|
14
|
2
|
28
|
Ödevler
|
7
|
5
|
35
|
Sunum / Seminer hazırlama
|
1
|
5
|
5
|
Kısa sınavlar
|
0
|
0
|
0
|
Ara sınavlara hazırlık
|
1
|
20
|
20
|
Ara sınavlar
|
1
|
2
|
2
|
Proje (Yarıyıl ödevi)
|
1
|
20
|
20
|
Laboratuvar
|
0
|
0
|
0
|
Arazi çalışması
|
0
|
0
|
0
|
Yarıyıl sonu sınavına hazırlık
|
1
|
30
|
30
|
Yarıyıl sonu sınavı
|
1
|
2
|
2
|
Araştırma
|
0
|
0
|
0
|
Toplam iş yükü
|
|
|
184
|
AKTS
|
|
|
7.50
|
Değerlendirme yöntemleri ve kriterler
|
Yarıyıl içi değerlendirme
|
Sayısı
|
Katkı Yüzdesi
|
Ara sınav
|
1
|
65
|
Kısa sınav
|
0
|
0
|
Ödev
|
7
|
35
|
Yarıyıl içi toplam
|
|
100
|
Yarıyıl içi değerlendirmelerin başarıya katkı oranı
|
|
40
|
Yarıyıl sonu sınavının başarıya katkı oranı
|
|
60
|
Genel toplam
|
|
100
|
Önerilen veya zorunlu okuma materyalleri
|
Ders kitabı
|
1. N.Yoshimura,Vacuum Technology:Practice for Scientific Instruments, Springer, 2008.
2. M. Razeghi, Fundamentals of Solid State Engineering, Kluver Acd. Publ., 2002.
|
Yardımcı Kaynaklar
|
S. Wolf ve R.N.Tauber, Silicon Processing for the VLSI Era, Vol 1., Lattice Press, 1986.
|
|